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氮化硅薄膜對(duì)硅片背表面的鈍化作用

氮化硅薄膜對(duì)硅片背表面的鈍化作用

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級(jí)別:| 積分:0 分 | 瀏覽:80424 | 大小:167.50KB | 下載:4443 次 | 上傳:2013-10-22

簡介:

采用等離子體增強(qiáng)化學(xué)沉積的方法(PECVD),在低襯體溫度下制備不同厚度的雙面氮化硅薄膜,通過準(zhǔn)穩(wěn)態(tài)電導(dǎo)法(QSSPCD)測試non2diffused和diffused硅片沉積不同厚度雙面氮化硅薄膜燒結(jié)前后的少子壽命。

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